创建自己的小题库
搜索
【判断题】
离子注入工艺中入射离子能量低于临界能量时核阻止本领占主导，高于临界能量时电子阻止本领占主导。
A.
正确
B.
错误
手机使用
分享
复制链接
新浪微博
分享QQ
微信扫一扫
反馈
收藏
举报参考答案：
举一反三
【多选题】离子注入有下面哪种特点：
A.
掺入杂质的浓度可高于该杂质在硅中的固溶度
B.
掺杂可控性好于扩散
C.
工艺方法简单、成本低
D.
与扩散相比离子注入杂质分布横向效应小
相关题目：
【多选题】离子注入有下面哪种特点：
A.
掺入杂质的浓度可高于该杂质在硅中的固溶度
B.
掺杂可控性好于扩散
C.
工艺方法简单、成本低
D.
与扩散相比离子注入杂质分布横向效应小
参考解析：
AI解析
重新生成
题目纠错 0
发布
