大学职业搜题刷题APP
下载APP
首页
课程
题库模板
Word题库模板
Excel题库模板
PDF题库模板
医考护考模板
答案在末尾模板
答案分章节末尾模板
题库创建教程
创建题库
登录
logo - 刷刷题
创建自己的小题库
搜索
【简答题】

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H(298K)== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化,试求此反应自发进行的温度条件。

手机使用
分享
复制链接
新浪微博
分享QQ
微信扫一扫
微信内点击右上角“…”即可分享
反馈
收藏 - 刷刷题收藏
举报
参考答案:
举一反三

【单选题】静定结构有温度变化时 ( )

A.
无变形,无位移,无内力
B.
有变形,有位移.无内力
C.
有变形.有位移,有内力
D.
无变形.有位移,无内力

【单选题】N2的临界温度是124K,如果想要液化N2,就必须()。

A.
在恒温下增加压力
B.
在恒温下降低压力
C.
在恒压下升高温度
D.
在恒压下降低温度

【单选题】要求随时取得规定温度以上热水的建筑,对循环系统的设置要求是()。

A.
无需设置回水管道
B.
保证支管中的热水循环
C.
保证干管和立管的热水循环
D.
以上说法均不正确
相关题目:
【单选题】静定结构有温度变化时 ( )
A.
无变形,无位移,无内力
B.
有变形,有位移.无内力
C.
有变形.有位移,有内力
D.
无变形.有位移,无内力
【单选题】N2的临界温度是124K,如果想要液化N2,就必须()。
A.
在恒温下增加压力
B.
在恒温下降低压力
C.
在恒压下升高温度
D.
在恒压下降低温度
【单选题】要求随时取得规定温度以上热水的建筑,对循环系统的设置要求是()。
A.
无需设置回水管道
B.
保证支管中的热水循环
C.
保证干管和立管的热水循环
D.
以上说法均不正确
刷刷题-刷题-导入试题 - 刷刷题
参考解析:
AI解析
重新生成
题目纠错 0
发布
刷刷题-刷题-导入试题 - 刷刷题刷刷题-刷题-导入试题 - 刷刷题刷刷题-刷题-导入试题 - 刷刷题
刷刷题-刷题-导入试题 - 刷刷题
刷刷题-刷题-导入试题 - 刷刷题
刷刷题-单词鸭