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【单选题】
1型光刻机指的是:
A.
掩膜版面积与芯片面积之比为1:1
B.
芯片面积与掩膜版面积之比为1:1
C.
掩膜版上图形尺寸与芯片上图形尺寸之比为1:1
D.
芯片上图形尺寸与掩膜版上图形尺寸之比为1:1
题目标签:
光刻机
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参考答案:
举一反三
【简答题】目前,最先进的光刻机是已经实现的
查看完整题目与答案
【判断题】现在的纳米级CPU光刻机常规光源已经无法使用,要使用极紫外光
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】光学光刻机主要有接触式 、 、 和分步重复光刻机等几种。
查看完整题目与答案
【简答题】解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?
查看完整题目与答案
物理学>半导体材料考试题目
【单选题】投影光刻机中,分辨率增加时焦深会怎样( )
A.
变大
B.
变小
C.
不变
D.
不确定
查看完整题目与答案
【简答题】光学光刻机主要有()等几种。非光学光刻机主要有()。
查看完整题目与答案
【简答题】光刻的三要素是( )、掩膜版和光刻机。
查看完整题目与答案
【单选题】光刻机的性能可由哪些参数来判别( )?
A.
分辨率
B.
套准精度
C.
产率
D.
以上皆是
查看完整题目与答案
【单选题】浸没式光刻机中,第一代浸没液体为 ( )
A.
有机物
B.
水
C.
饱和烷烃化合物
D.
多环饱和烷烃
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【简答题】光刻三要素是()、()、光刻机。
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