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【判断题】

衬底为 P 型硅片的 MOS 管就是 P 沟道 MOS 管

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举一反三

【单选题】VPE制备n+/p-Si,结果pn结进入了衬底,这是什么原因造成的:

A.
自掺杂效应
B.
互扩散效应
C.
衬底表面没清洗干净的缘故
D.
掺杂气体不纯

【多选题】N沟道推挽驱动器()

A.
需要二个N沟道器件
B.
实现正负电压驱动
C.
控制较简单
D.
需要一个电平转换器

【单选题】排水沟道的主要任务是()

A.
排除地面余水和降低地下水位
B.
滞蓄涝水
C.
引水灌溉和交通运输
D.
水产养殖

【单选题】气相外延制备n+/p-Si时,结果pn结进入了衬底,这是什么原因造成的()

A.
自掺杂效应
B.
互扩散效应
C.
衬底表面没清洗干净的缘故
D.
掺杂气体不纯
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需要二个N沟道器件
B.
实现正负电压驱动
C.
控制较简单
D.
需要一个电平转换器
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A.
排除地面余水和降低地下水位
B.
滞蓄涝水
C.
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D.
水产养殖
【单选题】气相外延制备n+/p-Si时,结果pn结进入了衬底,这是什么原因造成的()
A.
自掺杂效应
B.
互扩散效应
C.
衬底表面没清洗干净的缘故
D.
掺杂气体不纯
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