创建自己的小题库
搜索
【判断题】
根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为光学光刻法，电子束光刻法，离子束光刻法和X射线光刻法。
A.
正确
B.
错误
手机使用
分享
复制链接
新浪微博
分享QQ
微信扫一扫
反馈
收藏
举报参考答案：
举一反三
【单选题】下面选项中哪个选项对电子束光刻的描述是错误的？（）
A.
是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的一种光刻技术。
B.
电子束曝光的精度可以达到纳米量级，可以制作纳米结构器件。
C.
电子束曝光的曝光效率比较高。
D.
电子束光刻可用于集成光学器件，如光栅，光子晶体等。
相关题目：
【单选题】下面选项中哪个选项对电子束光刻的描述是错误的？（）
A.
是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的一种光刻技术。
B.
电子束曝光的精度可以达到纳米量级，可以制作纳米结构器件。
C.
电子束曝光的曝光效率比较高。
D.
电子束光刻可用于集成光学器件，如光栅，光子晶体等。
参考解析：
AI解析
重新生成
题目纠错 0
发布
