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【单选题】

溅射/电镀法中为什么要先溅射？

A.
增加粘附力
B.
溅射是为了导电实现电镀
C.
溅射的铜箔质量更好
D.
溅射工艺更方便
题目标签：溅射电镀法
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参考答案：
举一反三

【多选题】离子溅射泵的构成包含哪些组件？（）
A.
高电压电源
B.
磁铁
C.
Ti阴极板
D.
阳极管
查看完整题目与答案

【简答题】题目：微颗粒表面磁控溅射镀膜研究
查看完整题目与答案

【判断题】线路电镀法则是在制程板上进行洗铜电镀，再进行金板电镀、负片影像转移、图壁电镀等制程外层裸铜板。()
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案

【简答题】电镀法是以（ ）原理为基础，通过（ ）使金属沉积在零件表面，得到与基体金属牢固结合的（ ）。
查看完整题目与答案

【判断题】离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案

【判断题】反应溅射是一种纯物理的过程。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案

【多选题】溅射的方法非常多其中包括（）。
A.
直流溅射
B.
交流溅射
C.
反应溅射
D.
二级溅射
E.
三级溅射
查看完整题目与答案
集成电路制造工艺员>集成电路制造工艺员（三级）考试题目

【单选题】磁控溅射中（）被磁气回路的磁力线捕获
A.
电子
B.
原子
C.
粒子
D.
分子
查看完整题目与答案

【简答题】蒸发与溅射的区别是什么
查看完整题目与答案

【单选题】在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在 区进行的。
A.
阿斯顿暗区
B.
克鲁克斯暗区
C.
阴极辉光区
D.
负辉光区
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A.
正确
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A.
正确
B.
错误
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【判断题】反应溅射是一种纯物理的过程。
A.
正确
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A.
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B.
交流溅射
C.
反应溅射
D.
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A.
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B.
原子
C.
粒子
D.
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阿斯顿暗区
B.
克鲁克斯暗区
C.
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负辉光区
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