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【简答题】

正光刻胶

题目标签：光刻胶
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参考答案：
举一反三

【单选题】光刻胶的最小曝光量：
A.
与照射光强度成正比
B.
与曝光时间成正比
C.
取决于光刻胶的感光度
D.
取决于光刻工艺设备及工艺条件
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【判断题】光刻胶不同,所用的显影液也不同
A.
正确
B.
错误
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【简答题】【名词解释】光刻胶
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【单选题】图中使用的光刻胶是( )?
A.
正胶
B.
负胶
查看完整题目与答案

【简答题】什么是正光刻胶，负光刻胶？
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集成电路技术综合练习考试题目

【简答题】光刻胶
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【简答题】正光刻胶
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【简答题】解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
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【多选题】光刻胶由（）组成。
A.
溶剂
B.
树脂
C.
HMDS
D.
感光剂
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【简答题】解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
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物理学>半导体材料考试题目

【简答题】光刻胶
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【简答题】解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
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【单选题】正光刻胶被曝光部分经显影剂冲洗后( )
A.
不溶解
B.
溶解
C.
变硬
D.
变薄
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【简答题】什么是正光刻胶，负光刻胶？
查看完整题目与答案

【简答题】光刻胶正胶和负胶的区别是什么？
查看完整题目与答案

【简答题】什么是负光刻胶？
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【简答题】光刻胶的主要成分是
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正确
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正胶
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不溶解
B.
溶解
C.
变硬
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变薄
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