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【多选题】
在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻不足的原因可能有（）。
A.
传送速度太快
B.
pH值太低
C.
蚀刻液温度不足
D.
喷淋压力不足
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举一反三
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应，储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【单选题】全蚀刻体系是指（）
A.
能酸蚀釉质的制剂
B.
能酸蚀牙本质的制剂
C.
能酸蚀牙骨质的制剂
D.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙本质的制剂
E.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙骨质的制剂
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应，储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【多选题】湿法蚀刻具有以下哪些缺点（）。
A.
化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
B.
反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
蚀刻不均匀
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应，储存时要注意下列哪一项？（）
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
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不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
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A.
能酸蚀釉质的制剂
B.
能酸蚀牙本质的制剂
C.
能酸蚀牙骨质的制剂
D.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙本质的制剂
E.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙骨质的制剂
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应，储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
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A.
化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
B.
反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
蚀刻不均匀
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A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
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