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【简答题】

负性和正性光刻胶有什么区别和特点？

题目标签：性光光刻胶正性光刻胶
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【简答题】【名词解释】光刻胶
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【简答题】光电导效应检测器件——光敏电阻的特性测试 实验目的 (1)通过对光敏电阻基本参数的测量实验，掌握研究光敏电阻特性的基本方法。 (2)通过光敏电阻电路的基本连接，掌握光敏电阻的使用方法。 实验内容 (1)测量暗电阻和无光照射时的伏安特性曲线。 (2)测量亮电阻和一定光照下的伏安特性曲线。 (3)作出光电特性曲线，求出光照灵敏度。 (4)求出光电导灵敏度、电阻灵敏度与比灵敏度。 实验原理 下图所示为光...
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【单选题】有关急性光化性唇炎和慢性光化性唇炎区别的描述，以下错误的是( )
A.
急性光化性唇炎多在发作前有暴晒史，急性起病，以下唇为主
B.
急性光化性唇炎先表现为轻重不等的肿胀，继而发生成群密集的小水疱
C.
慢性光化性唇炎皮损易破裂，糜烂，表面可见黄棕色血痂或形成溃疡
D.
慢性光化性唇炎早期为唇部干燥，伴细小脱屑
E.
病程较长，长期不愈者可见唇黏膜变粗糙，角化过度，最终可演变为鳞状细胞癌
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【简答题】半导体具有热敏性、光敏性和( )性。
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【单选题】晶体具有各向异性。如蓝晶石（Al 2 O 3 ·SiO 2 ）在不同方向上的硬度不同；又如石墨在与层垂直的方向上的导电率与层平行的方向上的导电率1∕10 4 。晶体的各向异性主要表现在是： [     ] ①硬度 ②导热性 ③导电性 ④光学性质
A.
①③
B.
②④
C.
①②③
D.
①②③④
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【单选题】急性光毒性反应主要由以下哪种光源引起()
A.
UVA
B.
UVB
C.
UVC
D.
红外线
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【简答题】简述正性光刻和负性光刻的概念？优缺点？
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【单选题】急性光化性唇炎是以（）。
A.
脱屑为主
B.
肿胀为主
C.
淋巴细胞增生为主
D.
糜烂为主
E.
皲裂为主
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口腔医学(医学高级)>口腔医学综合练习考试题目

【判断题】对于负性光刻胶，当曝光量不足时在显影时会发生脱胶现象。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】光刻胶的主要成分是
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【单选题】有关急性光化性唇炎和慢性光化性唇炎区别的描述，以下错误的是( )
A.
急性光化性唇炎多在发作前有暴晒史，急性起病，以下唇为主
B.
急性光化性唇炎先表现为轻重不等的肿胀，继而发生成群密集的小水疱
C.
慢性光化性唇炎皮损易破裂，糜烂，表面可见黄棕色血痂或形成溃疡
D.
慢性光化性唇炎早期为唇部干燥，伴细小脱屑
E.
病程较长，长期不愈者可见唇黏膜变粗糙，角化过度，最终可演变为鳞状细胞癌
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【单选题】晶体具有各向异性。如蓝晶石（Al 2 O 3 ·SiO 2 ）在不同方向上的硬度不同；又如石墨在与层垂直的方向上的导电率与层平行的方向上的导电率1∕10 4 。晶体的各向异性主要表现在是： [     ] ①硬度 ②导热性 ③导电性 ④光学性质
A.
①③
B.
②④
C.
①②③
D.
①②③④
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【单选题】急性光毒性反应主要由以下哪种光源引起()
A.
UVA
B.
UVB
C.
UVC
D.
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【单选题】急性光化性唇炎是以（）。
A.
脱屑为主
B.
肿胀为主
C.
淋巴细胞增生为主
D.
糜烂为主
E.
皲裂为主
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【判断题】对于负性光刻胶，当曝光量不足时在显影时会发生脱胶现象。
A.
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