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【简答题】

题目:超导材料NiW合金基带电化学抛光工艺研究

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参考答案:
举一反三

【单选题】片剂的处方及制备工艺研究中可用热分析技术考察的是

A.
颗粒流动性
B.
崩解时限
C.
药物与赋形剂的相互作用
D.
重量差异
E.
含量均匀度

【单选题】化学抛光的优点不包括(    )。

A.
抛光液可长期使用
B.
兼有化学浸蚀作用
C.
操作简单
D.
无变形层

【单选题】以下不属于化学抛光的特点的是()

A.
设备和操作简单,只需一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了
B.
试样面只要磨到320号粒度水砂纸即可
C.
对不易夹持的特殊形状试样,可直接抛光适宜于大量生产
D.
抛光液消耗快
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重量差异
E.
含量均匀度
【单选题】化学抛光的优点不包括(    )。
A.
抛光液可长期使用
B.
兼有化学浸蚀作用
C.
操作简单
D.
无变形层
【单选题】以下不属于化学抛光的特点的是()
A.
设备和操作简单,只需一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了
B.
试样面只要磨到320号粒度水砂纸即可
C.
对不易夹持的特殊形状试样,可直接抛光适宜于大量生产
D.
抛光液消耗快
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