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【简答题】
假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散,从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm
-2
。
题目标签:
淀积
固溶度
总剂量
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参考答案:
举一反三
【简答题】sio2的残留,二三氧化物及腐殖质淋溶及淀积的过程指的是
查看完整题目与答案
【判断题】外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层,即外延层。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】杂质固溶度
查看完整题目与答案
【简答题】热分解化学气相淀积二氧化硅是利用()化合物,经过热分解反应,在基片表面淀积二氧化硅。
查看完整题目与答案
【单选题】LPCVD淀积多晶硅常用温度为600-650℃,采用热分解法,反应方程式为:( )。
A.
SiCl4 → Si+2Cl2
B.
Si3N4→3Si+2N2
C.
SiH4 →Si+2H2
D.
SiH2Cl2→Si+Cl2+H2
查看完整题目与答案
【简答题】LPCVD淀积SiO2温度适中(700-800℃),对杂质再分布影响小,
查看完整题目与答案
【简答题】简述淀积膜的过程的三种不同阶段
查看完整题目与答案
【单选题】SOG平坦化时常常采用三明治结构,其中淀积产生SiO2的方式是
A.
PECVD
B.
APCVD
C.
LPCVD
D.
PVD
查看完整题目与答案
【单选题】属于化学气相淀积的是( ) ( 1 )蒸发 ( 2 )溅射 ( 3 )硅烷热分解淀积多晶硅 ( 4 )硅烷氧化生成 SiO 2
A.
⑴⑵
B.
⑴⑶
C.
⑵⑷
D.
⑶ ⑷
查看完整题目与答案
【简答题】假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散,从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
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【单选题】溅射(Sputtering)是由 轰击靶材表面,使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。
A.
电子
B.
中性粒子
C.
高能离子
D.
负离子
查看完整题目与答案
【简答题】二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。
查看完整题目与答案
【多选题】在半导体工艺中,淀积的薄膜层应满足的参数包含有()。
A.
均匀性
B.
表面平整度
C.
自由应力
D.
纯净度
E.
电容
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集成电路制造工艺员>集成电路制造工艺员(三级)考试题目
【多选题】化学气相淀积在IC工艺中主要沉积哪些类型的薄膜?
A.
多晶硅膜
B.
氧化硅膜
C.
金属膜
D.
氮化硅膜
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【简答题】采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜?这层膜的优点是什么?
查看完整题目与答案
【简答题】二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。
查看完整题目与答案
【单选题】LPCVD-SiO2,将工艺控制在较高温度,有:ks>hg,此时淀积速率的特点为()
A.
反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大
B.
温度的较都会对淀积速率有较大影响
C.
淀积速率受气相质量输运控制
D.
淀积速率受表面化学反应控制
查看完整题目与答案
【简答题】热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关?淀积速率的测量采用什么办法?
查看完整题目与答案
半导体芯片制造工>半导体制造技术考试题目
【填空题】二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。
查看完整题目与答案
半导体芯片制造工>半导体芯片制造高级工考试题目
【单选题】通过气态物质的化学反应在晶圆表面淀积一层固态薄膜的工艺称为()。
A.
热氧化
B.
物理气相淀积
C.
等离子淀积
D.
化学气相淀积
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A.
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Si3N4→3Si+2N2
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SiH4 →Si+2H2
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⑴⑵
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均匀性
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表面平整度
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自由应力
D.
纯净度
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A.
多晶硅膜
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氧化硅膜
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金属膜
D.
氮化硅膜
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A.
反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大
B.
温度的较都会对淀积速率有较大影响
C.
淀积速率受气相质量输运控制
D.
淀积速率受表面化学反应控制
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热氧化
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物理气相淀积
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等离子淀积
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