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【多选题】
光学光刻中的曝光工艺需用 完成,光刻胶必须在其光源的强峰波长具有比较大的 ,目前常用的曝光光源是 和 。曝光时要有合适的 ,它是 与 的乘积。曝光前有十分精密的 来保证对准精度。
A.
光刻机
B.
灵敏度
C.
汞灯
D.
准分子激光器
E.
曝光剂量
F.
光强
G.
曝光时间
H.
对准定位系统
题目标签:
对准精度
光刻胶
曝光光源
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参考答案:
举一反三
【判断题】CTcP直接制版机采用激光做为曝光光源。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】【名词解释】光刻胶
查看完整题目与答案
【简答题】光刻胶
查看完整题目与答案
【单选题】影响发光二极管曝光光源使用寿命的是( )
A.
加载到 LED 的电流大小
B.
LED 光源发光的均匀性
C.
LED 的集成密度
D.
LED 曝光分辨率的高低
查看完整题目与答案
【简答题】解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?
查看完整题目与答案
【简答题】什么是正光刻胶,负光刻胶?
查看完整题目与答案
【简答题】常见的曝光光源?
查看完整题目与答案
集成电路技术综合练习考试题目
【判断题】陀螺自标定精度主要决定于自标定定位精度,包括真北对准精度、调平精度和姿态锁定精度。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】什么是负光刻胶?
查看完整题目与答案
【简答题】光刻胶的主要成分是
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