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【判断题】
目前本公司生产的单晶硅片厚度为210μm±10μm。
A.
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B.
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举一反三
【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为（）
A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极
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C.
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D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极
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