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【多选题】
对于离子注入机,下列说法正确的是
A.
离子源负责产生等离子体,其中离子用于后续离子注入。
B.
抑制电极可以有效防止被加速的离子撞击电极产生的二次电子向离子源系统的轰击。
C.
前加速电极用于加速离子并轰击晶圆,后加速电极用于加速离子便于质谱仪提纯。
D.
晶圆表面因离子轰击会积累正电荷,因此极板需接地,中和多余正电荷。
题目标签:
注入机
离子注入机
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参考答案:
举一反三
【判断题】离子注入机可用于微电子线路加工
A.
错
B.
对
查看完整题目与答案
【单选题】离子注入机中,用于筛除同位素,保障高纯度离子注入的装置是
A.
萃取电极
B.
质谱仪
C.
加速电极
D.
电荷中性化系统
查看完整题目与答案
【单选题】离子注入机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成,其中,( )是离子注入机的核心部位。
A.
加速器
B.
质量分析器
C.
四级透镜
D.
离子源
查看完整题目与答案
【判断题】离子注入机实际上是一种加速器
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【多选题】T-Z3型黄油注入机的结构主要有()。
A.
机架油泵装置
B.
液压装置
C.
油缸
D.
储油罐
E.
电气部分
F.
降噪部分
查看完整题目与答案
【单选题】离子注入机机架外壳和高压放电棒接地电阻小于()
A.
1Ω
B.
5Ω
C.
10Ω
查看完整题目与答案
【单选题】离子注入机中离子产生说法正确的是()
A.
通过热电子轰击气体原子,离子源产生离子
B.
热电子通常由热钨丝源产生
C.
I/SMagnet可以增加电离并稳定离子体
D.
其余都正确
查看完整题目与答案
【单选题】离子注入机通过什么控制注入SiWafer的深度?()
A.
通过控制注入速度(能量)
B.
通过控制注入电压
C.
通过控制注入电流
D.
通过控制注入电阻
查看完整题目与答案
【简答题】为了避免离子在散射开始前就深入晶体内,大多数离子注入机会选择()的角度向晶圆发射离子束。
查看完整题目与答案
【简答题】离子注入机的主要部件以及它们的主要任务分别是什么?
查看完整题目与答案
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A.
萃取电极
B.
质谱仪
C.
加速电极
D.
电荷中性化系统
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【单选题】离子注入机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成,其中,( )是离子注入机的核心部位。
A.
加速器
B.
质量分析器
C.
四级透镜
D.
离子源
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A.
正确
B.
错误
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A.
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B.
液压装置
C.
油缸
D.
储油罐
E.
电气部分
F.
降噪部分
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1Ω
B.
5Ω
C.
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A.
通过热电子轰击气体原子,离子源产生离子
B.
热电子通常由热钨丝源产生
C.
I/SMagnet可以增加电离并稳定离子体
D.
其余都正确
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A.
通过控制注入速度(能量)
B.
通过控制注入电压
C.
通过控制注入电流
D.
通过控制注入电阻
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【简答题】离子注入机的主要部件以及它们的主要任务分别是什么?
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