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举一反三
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应，储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【单选题】鼓泡式蚀刻和浸泡式蚀刻的不同之处在于（）。
A.
鼓泡式蚀刻液的酸性更强
B.
鼓泡式蚀刻通入空气
C.
鼓泡式蚀刻液的酸性更强
D.
鼓泡式蚀刻通入氧气
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应，储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【多选题】湿法蚀刻具有以下哪些缺点（）。
A.
化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
B.
反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
蚀刻不均匀
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反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
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