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【单选题】

在溅射镀膜过程中,靶材通常是放在 区进行的。

A.
阿斯顿暗区
B.
克鲁克斯暗区
C.
阴极辉光区
D.
负辉光区
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【单选题】以下哪个不是蒸发镀膜的特点?()

A.
设备复杂
B.
能够成膜金属材料
C.
高纯度镀膜
D.
基板损伤小

【单选题】目标达成的过程是( )。

A.
决定-行为
B.
信念-决定-结果
C.
决定-行为-结果
D.
信念-行为-结果
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A.
决定-行为
B.
信念-决定-结果
C.
决定-行为-结果
D.
信念-行为-结果
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