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【简答题】

什么是负性光刻？正性光刻？

题目标签：性光光刻
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举一反三

【简答题】光刻加工
查看完整题目与答案

【单选题】常规光学光刻所用的光源为:
A.
黄光
B.
紫外光
C.
准分子激光
D.
高压汞灯
查看完整题目与答案

【单选题】下列有关物质的应用与性质相对应的说法有几个（ ）。①明矾能用于净水是因为铝离子水解生成的氢氧化铝胶体具有强氧化性②氯化铁溶液可用于制作印刷电路板是因为其能氧化单质铜③浓硫酸可用作干燥剂是因为其具有脱水性④光导纤维可用作通讯材料是因为其具有导电性⑤MgO、Al2O3的熔点很高，可制作耐高温材料⑥NaHCO3能与碱反应，因此食品工业上用作焙制糕点的膨松剂⑦Al具有良好的延展性和抗腐蚀性，可制成铝箔包装...
A.
2个
B.
3个
C.
4个
D.
5个
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【简答题】光电导效应检测器件——光敏电阻的特性测试 实验目的 (1)通过对光敏电阻基本参数的测量实验，掌握研究光敏电阻特性的基本方法。 (2)通过光敏电阻电路的基本连接，掌握光敏电阻的使用方法。 实验内容 (1)测量暗电阻和无光照射时的伏安特性曲线。 (2)测量亮电阻和一定光照下的伏安特性曲线。 (3)作出光电特性曲线，求出光照灵敏度。 (4)求出光电导灵敏度、电阻灵敏度与比灵敏度。 实验原理 下图所示为光...
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【简答题】光刻的作用是什么？
查看完整题目与答案

【单选题】三维立体光刻中的光刻胶属于 光刻胶。
A.
正性
B.
负性
C.
电子束
D.
中性
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【单选题】急性光化性唇炎是以
A.
脱屑为主
B.
糜烂为主
C.
皲裂为主
D.
肿胀为主
E.
溃疡为主
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【简答题】光刻三要素: , , 。
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【简答题】[名词解释] 光刻三要素
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电子与通信技术>集成电路工艺原理考试题目

【简答题】简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
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A.
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B.
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B.
负性
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B.
糜烂为主
C.
皲裂为主
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