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> 光刻机
"光刻机"相关考试题目
1.
中芯国际买了一台光刻机,属于
2.
目前,最先进的光刻机是已经实现的
3.
光刻机的图形转移________决定了集成电路的集成度大小。
4.
解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?
5.
激光切割机就是光刻机
6.
芯片的集成程度取决于光刻机的精度。
7.
简述光学光刻机的分辨率的计算。
8.
1型光刻机指的是:
9.
目前芯片生产最先进的光刻机是
10.
EUV光刻机是用来制造( )的设备。
11.
典型的光刻机主要有接触式光刻机 、接近式光刻机和__
12.
现在的纳米级CPU光刻机常规光源已经无法使用,要使用极紫外光
13.
光刻机的图形转移 _ _______ 决定了集成电路的集成度大小。
14.
以下哪种光刻机不需要掩膜版:
15.
光学光刻机主要有接触式 、 、 和分步重复光刻机等几种。
16.
解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?
17.
光刻机的图形转移________决定了集成电路的集成度大小。
18.
投影光刻机中,分辨率增加时焦深会怎样( )
19.
计算扫描光刻机的分辨率,假设波长是248nm, NA=0.65, K是0.6。
20.
光学光刻机主要有()等几种。非光学光刻机主要有()。
21.
光刻机的重要评价指标是( )
22.
光刻机的套刻精度是指掩膜版的图形和硅晶圆的光刻图形之间的一致性,套刻精度越低,一致性越好。
23.
光刻的三要素是( )、掩膜版和光刻机。
24.
如今,最常用的光刻机依然是 EVU 光刻机,但最先进的则是已经实现的 193nm 浸润式 光刻机。
25.
题目:基于ABM全自动深紫外光刻机的最佳工艺参数研究
26.
光刻机的作用就是将掩膜版上的电路图形放大并转移、复制到硅片上。
27.
光刻机的性能可由哪些参数来判别( )?
28.
浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
29.
浸没式光刻机中,第一代浸没液体为 ( )
30.
光刻三要素是()、()、光刻机。
31.
中芯国际买了一台光刻机,属于
32.
光刻机有哪几种曝光方式?
33.
如今,最常用的光刻机是( ).
34.
解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?
35.
光刻机可以分为哪几种类型( )
36.
浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。