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"曝光光源"相关考试题目
1.
应用紫激光技术的CTP制版机中,曝光光源采用的波长为400nm的激光
2.
应用紫激光技术的CTP制版机,曝光光源采用的是波长为400nm的激光。
3.
光刻技术中,曝光光源的波长与光刻分辨率有密切的关系。以下光源中,使光刻分辨率最高(即尺寸最小)的是
4.
例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
5.
CTcP直接制版机采用激光做为曝光光源。
6.
应用紫激光技术的CTP制版机中,曝光光源采用的是波长为400nm的激光。()
7.
激光曝光光源具有如下特点:( )
8.
模拟静电照相设备既不采用激光作为曝光光源,也不采用发光二极管作为曝光光源。
9.
常见的曝光光源?
10.
影响发光二极管曝光光源使用寿命的是( )
11.
光刻机根据曝光光源的波长排序,由长到短下面排序正确的是()。
12.
例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
13.
光学光刻中的曝光工艺需用 完成,光刻胶必须在其光源的强峰波长具有比较大的 ,目前常用的曝光光源是 和 。曝光时要有合适的 ,它是 与 的乘积。曝光前有十分精密的 来保证对准精度。
14.
常见的曝光光源?
15.
例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
16.
CTcP直接制版机采用激光作为曝光光源。()
17.
晒制PS版对曝光光源有什么要求?
18.
光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?
19.
光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?
20.
列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。